HYBRID: "Neue Wege für die Mikrochips von morgen"

Abstract:

Die Photo-Lithographie ist einer der wichtigsten Schlüsselprozesse bei der Herstellung von Mikrochips. Mittels Lithographie-Optiken belichten Chiphersteller weltweit ihre Wafer mit Nanometer- Präzision - die Basis für die Fertigung von extrem leistungsfähigen Mikrochips. Lithographie- Optiken leisten einen entscheidenden Beitrag: Die Güte und Form des Beleuchtungssystems sowie das Auflösungsvermögen der Projektionsoptik beeinflussen entscheidend, wie klein die Strukturen auf einem Mikrochip sein können. Die integrierten Schaltkreise haben inzwischen den sogenannten 5nm-Knoten in der Volumenherstellung erreicht und der 3nm-Knoten steht vor der Tür.

Auch wenn die generierten Strukturen deutlich größer sind, als diese Bezeichnungen vermuten lassen, sind sie doch manchmal kleiner als die Wellenlänge des verwendeten Lichtes. Wie kann das sein?

Der Vortrag beleuchtet die Geschichte der optischen Lithographie von der i-Linie bis zur EUV-Lithographie, ihre Erfolge und Rückschläge, und ganz generell ihre Fähigkeit, die Grenze des Machbaren mit optischen Tricks immer wieder ein kleines Stückchen hinauszuschieben. Diese Fähigkeit hat der Lithographie ihre überlegene Ökonomie ermöglicht und sie zu einer der entscheidenden Schlüsseltechnologien des 21. Jahrhunderts gemacht.